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山西十一选五任五走势图:反應濺射鍍膜法

山西十一选五预测专家 www.rjeuu.com ? ?在山西十一选五预测专家中進行濺射鍍膜的時候,如果想獲得一些和所使用靶材不同的物質,可以利用氣體和靶材發生反應從而產生其他的物質,如通過與氧氣反應獲得各種金屬氧化物,與氮氣反應獲得氮化物,與乙炔反應獲得碳化物等等,而這種通過反應來改變或者控制沉積特性的方法叫做反應濺射鍍膜法。

? ?真空鍍膜機里的氣體壓力是一個很重要的因素,不同的氣體壓力,影響到反應過程是在陰極上發生還是在基片上發生,如果反應濺射的氣壓比較低的話,氣相反應就不會太明顯,但等離子體中流通電流會很高,電流在反應氣體分子的分解、激發和電離過程中起到很重要的作用,所以在進行反應濺射鍍膜的時候,會產生一種強大的粒子流,它是由載能游離原子團所組成的,并且伴隨著濺射出來的靶原子從陰極靶流向基片,克服了和薄膜生長有關的激活能后形成了化合物,這就是反應濺射鍍膜法的工作原理。

? ?通過改變濺射時反應氣體和惰性氣體的比例,使金屬薄膜變成半導體或非金屬的薄膜,一開始只需少量的反應氣體和惰性氣體混合到一起,再通入到真空爐內,再漸漸增加反應氣體的量,隨之增加的是陰極靶表面的上反應氣體密度,而且混入沉積膜層內的反應氣體也會增加,當達到某個額定值后,即使保持其他條件不變,濺射工藝的參數也會有所變化的,同時沉積速率也會下降。

? ?以上是真空鍍膜機中發生反應濺射鍍膜時會發生的一些情況,不過整個工藝過程所受的影響條件是很多的,整體來說是一項很復雜的真空電鍍工藝方法。


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